產品服務
光阻製造
本公司電子級溶劑主要是用於半導體製程、平面顯示器、封裝測試、發光二極體及光阻製造之領域，隨半導體之製程日趨先進，所提供之電子級溶劑產品亦是朝向高純度以及高品質的方向前進。產品可依不同客戶需求提供客製化規格，若有產品及其他相關問題歡迎聯絡電子化學品課業務，或留下您的資訊，將會有專責人員與您聯繫。
| 品名 | CAS | 用途 | SDS | SPEC |
|---|---|---|---|---|
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醋酸正丁酯 NBAC |
123-86-4 | 光阻助溶劑用途。 | SDS | SPEC |
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環己酮 ANONE |
108-94-1 | 光阻助溶劑用途。 | SDS | SPEC |
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醋酸丙二醇甲醚酯 PGMEA |
108-65-6 | 光阻助溶劑用途。 | SDS | SPEC |
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丙二醇甲醚 PGME |
107-98-2 | 主要用途為和 PGMEA 調和後作為光阻稀釋液及清洗液，也可單獨使用於光阻管路清洗。 | SDS | SPEC |
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3-乙氧基丙酸乙酯 EEP |
763-69-9 | 多用為負光阻助溶劑。 | SDS | SPEC |
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異丙醇 IPA |
67-36-0 | 製造丙酮及其衍生物；製造甘油與醋酸異丙酯；香精油及其他油類。 | SDS | SPEC |
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丙酮 ACT |
67-64-1 | 應用於高科技產業之清洗製程或用於一般清潔用途。 | SDS | SPEC |
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