電子級溶劑
本公司電子級溶劑主要是用於半導體製程、平面顯示器、封裝測試、發光二極體及光阻製造之領域,隨半導體之製程日趨先進,所提供之電子級溶劑產品亦是朝向高純度以及高品質的方向前進。產品可依不同客戶需求提供客製化規格,若有產品及其他相關問題歡迎聯絡電子化學品課業務,或留下您的資訊,將會有專責人員與您聯繫。
| 品名 | CAS | 用途 | SDS | SPEC |
|---|---|---|---|---|
| 丙二醇甲醚 PGME |
107-98-2 | 主要用途為晶邊清洗液配方 | SDS | SPEC |
| 醋酸丙二醇甲醚酯 PGMEA |
108-65-6 | 主要用途為晶邊清洗液以及其他晶邊清洗液配方成分 | SDS | SPEC |
| 醋酸正丁酯 NBAC |
123-86-4 | 主要用途為晶邊清洗液配方以及顯影 | SDS | SPEC |
| 環戊酮 CPN |
120-92-3 | 多用為 PI 光阻之顯影劑 | SDS | SPEC |
| 異丙醇 IPA |
67-36-0 | 半導體蝕刻後洗淨或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| 丙酮 ACT |
67-64-1 | 應用於高科技產業之清洗製程或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| N-甲基吡咯烷酮 NMP |
872-50-4 | 多用於 PI 溶劑以及做為剝離液用配方溶劑 | SDS | SPEC |
| 品名 | CAS | 用途 | SDS | SPEC |
|---|---|---|---|---|
| N-甲基吡咯烷酮 NMP |
872-50-4 | 多用於 PI 溶劑以及做為剝離液用配方溶劑 | SDS | SPEC |
| N-乙基吡咯烷酮 NEP |
2687-91-4 | 可用於樹脂溶劑及做為剝離液用配方溶劑,可取代 NMP 使用 | SDS | SPEC |
| γ-丁內酯 GBL |
96-48-0 | 多用於 PI 溶劑以及作為剝離液用配方溶劑,也可做為配向膜用途 | SDS | SPEC |
| 丙二醇甲醚 PGME |
107-98-2 | 主要用途為晶邊清洗液配方 | SDS | SPEC |
| 醋酸丙二醇甲醚酯 PGMEA |
108-65-6 | 晶邊清洗液以及光阻助溶劑用途 | SDS | SPEC |
| 異丙醇 IPA |
67-36-0 | 半導體蝕刻後洗淨或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| 丙酮 ACT |
67-64-1 | 應用於高科技產業之清洗製程或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| 二乙二醇丁醚 BDGE |
112-34-5 | 應用於高科技產業之清洗製程或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| 醋酸 GAA |
64-19-7 | 應用於高科技產業之蝕刻液調配原料 | SDS | SPEC |
| 品名 | CAS | 用途 | SDS | SPEC |
|---|---|---|---|---|
| 醋酸正丁酯 N-Butyl Acetate |
123-86-4 | 晶邊清洗液配方、顯影以及光阻助溶劑用途 | SDS | SPEC |
| 環己酮 Cyclohexanone |
108-94-1 | 多用為光阻溶劑 | SDS | SPEC |
| 丙二醇甲醚 PGME |
107-98-2 | 主要用途為晶邊清洗液配方 | SDS | SPEC |
| 3-乙氧基丙酸乙酯 EEP |
763-69-9 | 多用為光阻助溶劑用途 | SDS | SPEC |
| 丙酮 ACT |
67-64-1 | 應用於高科技產業之清洗製程或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| 異丙醇 IPA |
67-36-0 | 半導體蝕刻後洗淨或用於一般清潔用途 | SDS | SPEC |
| 品名 | CAS | 用途 | SDS | SPEC |
|---|---|---|---|---|
| 環戊酮 CPN |
120-92-3 | 多用為 PI 光阻之顯影劑,也可用於醫藥及香料原料使用 | SDS | SPEC |
| 醋酸丙二醇甲醚酯 PGMEA |
108-65-6 | 晶邊清洗液以及光阻助溶劑用途 | SDS | SPEC |
| N-乙基吡咯烷酮 NEP |
2687-91-4 | 可用於 PI 溶劑以及作為剝離液用配方溶劑,可取代 NMP 使用 | SDS | SPEC |
| N-甲基吡咯烷酮 NMP |
872-50-4 | 多用於 PI 溶劑以及做為剝離液用配方溶劑 | SDS | SPEC |
| 品名 | CAS | 用途 | SDS | SPEC |
|---|
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